GWDL-1600ZQLB双开门真空气氛炉，专为大型工件与批量材料的高温处理设计。
整机外形200×110×180厘米，结构紧凑，适合实验室与中试车间布局。
炉膛有效尺寸1500×500×600毫米，满足大尺寸样品处理需求。
设备单相功率32千瓦，3区独立加热，温场更均匀。
36支硅钼棒，最高使用温度1600°C。
独特两支并联连接：即使一支元件损坏，仅影响该组两支，整炉不停运。
采用节能型无干扰加热技术，无需可控硅和变压器，对电网无谐波污染，特别适合高要求科研环境。
配备完整真空系统与进气系统。
两侧下部共8个进气口，集成至总管道，配合流量计阀门，实现精准气氛控制。
同时搭载6P工业级冷水机，确保长时间高温运行稳定性。
温度传感器采用铂铑B型热电偶，共3支控温，实时监测炉内温场。
升温速率1–10°C/min可调，炉温均匀性±1°C，满足高精度热处理工艺。
内层采用进口氧化锆多晶纤维板（耐温1800°C），外层耐火棉板不低于160mm，总保温层超过500mm。
即使炉内1600°C，外壳温度夏季≤60°C、冬季≤50°C——安全且节能。
标配10寸触摸屏，预设50段程序，支持远程控制，多人手机同时监控设备状态、启停炉、查看报表与升温曲线。
GWDL-1600ZQLB——精准、稳定、智能的高温处理平台。
